龙之博弈：解析中国光刻技术突破与投资版图

全球光刻霸权：由垄断与技术瓶颈定义的市场

要准确评估中国在光刻技术领域的现状与前景，必须首先理解其所处的全球产业格局。这是一个由极少数巨头通过技术、资本和复杂的供应链网络构建起来的高度垄断的市场，为任何后来者都设置了近乎无法逾越的壁垒。中国的自主化努力，正是在这样一个背景下展开的一场高难度战略博弈。

市场结构：三足鼎立的高风险牌局

全球光刻机市场由荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家公司主导。从销售金额来看，市场集中度极高，2022年ASML占据了高达82%的市场份额，而佳能和尼康则分别占据10%和8% ¹。这一寡头垄断格局凸显了行业的进入门槛之高。光刻机作为半导体设备中价值最高、也最为关键的一环，其市场规模在2022年达到了约232.3亿美元，占整个半导体设备市场份额的23% ²。市场预测显示，这一增长趋势将持续，预计到2026年全球光刻机市场规模将增长至约310亿美元 ³。

然而，简单的市场份额数字背后，隐藏着一个更为复杂的竞争现实。市场的竞争格局并非均质，而是呈现出明显的分层。ASML凭借其在高端设备上的绝对优势攫取了大部分利润，而尼康和佳能则主要在技术相对成熟的中低端市场展开竞争。从出货量结构来看，2022年技术相对成熟的KrF和i-line光刻机出货量分别为209台和185台，占据了量的优势 ¹。这表明，对于成熟制程（28纳米及以上），中国企业面对的是一个虽有竞争但仍有渗透空间的市场。而对于先进制程（28纳米以下），中国企业则需要直面ASML这座难以撼动的技术堡垒。这一分化的市场结构，深刻地影响并决定了中国光刻产业必须采取的双轨并行战略：一方面，在成熟制程市场实现商业化竞争，以建立规模、积累资本、培育供应链；另一方面，以国家力量支持“登月计划”，长线攻坚高端DUV及未来技术，以保障国家技术主权的未来。

EUV之巅：ASML的绝对垄断

在光刻技术的金字塔尖，是极紫外光刻（EUV）技术。EUV光刻机是制造7纳米及以下先进工艺芯片不可或缺的工具，而ASML是全球唯一能够设计和制造EUV光刻机的公司 ¹。这赋予了ASML在全球半导体技术前沿的绝对控制权，使其成为延续摩尔定律的关键角色。

EUV光刻机的复杂性和高昂成本（单台售价超过1亿欧元）是其垄断地位的直接体现 ¹。这一成就并非单一公司之力，而是ASML整合全球顶尖供应链数十年协同研发的结果。例如，其核心的光学系统由德国蔡司（Zeiss）独家供应，而光源系统则来自其子公司、前美国公司Cymer。这种深度绑定的全球合作网络，本身就构成了后来者难以复制的护城河。

技术壁垒：集大成之难

光刻机被誉为“现代工业皇冠上的明珠”，其极端复杂性体现在多个核心子系统中，每一项都代表着当前人类工程技术的极限。

光学系统：这是光刻机的“眼睛”，其精度决定了芯片制造的极限。德国蔡司为ASML独家供应EUV光学部件，其镜片的面型精度（PV值）要求小于0.25纳米 ¹。这是一个原子级别的精度要求，是横亘在中国光学产业面前最巨大的挑战之一。
光源系统：产生稳定、高功率的EUV光源是另一项艰巨任务，耗费了业界数十年的时间才得以解决。光源的稳定性和功率直接影响光刻的效率和良率。
双工件台：这是ASML的一项革命性创新，通过在一个工件台进行曝光的同时，对下一个晶圆进行测量和对准，极大地提高了生产效率（Throughput）。该系统要求在高速运动下保持仅2纳米的定位精度 ²。这项技术是ASML在生产效率和成本效益方面甩开竞争对手的关键。

这些子系统中的任何一个，都代表着一个巨大的技术鸿沟，而光刻机的最终成功，则需要将所有这些顶尖技术完美集成。这不仅是技术挑战，更是对一个国家整体工业基础、材料科学、精密制造和系统工程能力的终极考验。

中国自主之路：政策、地缘政治与国家战略

中国对光刻机自主化的不懈追求，并非单纯的市场或技术驱动，而是在深刻的地缘政治变动和国家安全考量下，一项关乎经济主权和科技命脉的战略性任务。外部的封锁与内部的决心共同构成了这一宏大叙事的两大主轴。

催化剂：地缘政治制裁与出口管制

近年来，以美国为首的国家联盟不断收紧针对中国的半导体技术出口管制。这些措施的核心目标之一，就是限制中国获取先进的半导体制造设备，特别是ASML生产的EUV和高端深紫外（DUV）光刻机 ⁴。美国成功说服其关键盟友——拥有ASML的荷兰和拥有尼康、佳能及光刻胶等关键材料供应商的日本——加入管制行列，从而有效地切断了中国从国际市场获取最先进光刻技术的路径 ¹。

尽管面临严格限制，中国大陆市场对于全球供应链的重要性依然不容忽视。2022年，中国大陆销售额占ASML总销售额的比例仍达到14%-15% ¹。ASML预计2023年仍将向中国销售约100台DUV光刻机 ¹。这反映了在全球化的产业链中，经济的相互依存关系依然复杂且坚韧。然而，这种依赖性也正是中国寻求技术独立的根本原因。

国家应对：“举国体制”的全面出击

面对外部的技术封锁，中国启动了系统性的、由国家主导的产业政策，形成了“举国体制”的应对模式。

“02专项”：全称为“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项，始于“十二五”规划期间。该专项重点攻关45-22纳米关键制造装备，为上海微电子（SMEE）等国内核心企业的早期研发奠定了基础 ¹。
国家集成电路产业投资基金（“大基金”）：这是一个规模庞大的国家级投资基金，旨在通过市场化运作引导社会资本，集中投向半导体产业链的战略环节和薄弱领域。大基金一期、二期的相继落地，为产业注入了巨量资金。近期，注册资本超过3000亿元人民币的第三期基金正式成立，标志着国家对半导体自主化的支持力度再次升级，决心空前 ⁶。
财税激励政策：国家出台了一系列极具吸引力的税收优惠政策，例如，对线宽小于28纳米（含）且经营期在15年以上的集成电路生产企业，实行长达十年的企业所得税减免 ⁶。这些政策旨在大幅降低国内企业在研发和生产初期的财务压力，鼓励长期投入 ⁸。

这些外部压力和内部政策的合力，产生了一个深刻的、甚至有些出人意料的结构性变化。在没有制裁的开放市场中，任何一家理性的晶圆厂（如中芯国际）都会优先选择性能稳定、效率更高的ASML设备，而非尚在成长中、存在风险的国产设备。然而，出口管制彻底改变了这一选择逻辑。对于先进制程，国产设备从一个“备选项”变成了“唯一项”。这为本土设备商创造了一个受保护的、有保障的国内市场，迫使晶圆厂必须与上海微电子等设备商深度合作、共同验证和迭代技术。这种紧密的合作关系所产生的宝贵生产数据和反馈循环，是在开放竞争中几乎不可能获得的，极大地加速了国产设备的成熟过程。因此，外部制裁在客观上为中国本土供应链的崛起提供了温床，将投资国产光刻机产业链的逻辑，从单纯的技术赌注，转变为对国家战略意志确定性的押注。

解构中国光刻机：技术现状评估

在宏大的战略背景下，对中国光刻机技术的评估需要回归到具体的工程现实。目前，中国的光刻机事业以核心集成商上海微电子为龙头，带动关键子系统的协同攻关。尽管取得了显著进展，但与世界顶尖水平的差距依然客观存在。

核心集成商：上海微电子（SMEE）

上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）是中国光刻机研发的“国家队”和绝对核心，承担着系统集成和整机开发的重任 ¹。

当前量产能力：SMEE目前最成熟且已实现商业化量产的产品是其600系列光刻机。这是一款采用ArF光源的步进扫描光刻机，能够满足90纳米工艺节点的芯片批量生产需求 ¹。这标志着中国在DUV光刻机领域实现了从无到有的突破，但与国际主流技术仍有数代差距。
下一代突破（28纳米）：市场最为关注的焦点，是SMEE正在研发的SSA800系列浸没式ArF（ArFi）光刻机，其目标是实现28纳米工艺分辨率。尽管有报道称SMEE在2019年已研发出28纳米光刻机 ³，但根据2023年更为审慎的行业分析，该设备仍处于“有望取得突破”的阶段 ²。这表明，从原型机研发成功到实现可用于大规模量产的稳定性、可靠性和生产效率，仍有一段艰难的路要走。这台28纳米浸没式光刻机的成功与否，是关乎整个中国半导体自主化进程的近期最关键节点。

关键子系统：进展与差距

一台光刻机的性能，取决于其三大核心子系统的能力。中国在这些领域均有布局，但技术差距也最为明显。

光学系统（“眼睛”）：
- 国内代表：A股上市公司茂莱光学是SMEE光刻机照明及曝光物镜系统中光学元器件的关键供应商 ⁹。
- 技术差距：与全球标杆德国蔡司相比，国产光学系统的差距是巨大的。以最能体现加工精度的面型精度（PV值）为例，蔡司为ASML的EUV光刻机提供的光学部件精度小于0.25纳米，而茂莱光学在其i-line光刻机相关产品的公开指标中，精度为小于30纳米 ¹。超过100倍的差距，反映了在超精密光学加工、检测、镀膜以及底层材料科学上的系统性落后，这是需要长期追赶的最大短板。
光源系统（“光”）：
- 国内代表：未上市的科益虹源是国内DUV激光光源研发的主力军 ¹⁰。上市公司
  炬光科技则专注于光源系统中的核心光学元器件，如光场匀化器。炬光科技不仅为国际顶级光学企业供货，也与国内研发单位有广泛合作 ¹¹。
- 技术差距：尽管在部分元器件上取得突破，但要研发出满足高产能制造要求的高功率、高稳定性、长寿命的ArF准分子激光光源，仍是巨大的工程挑战。
双工件台（“手”）：
- 国内代表：由清华大学与华卓精科（筹备上市）合作研发的双工件台，已取得关键性突破 ²。
- 技术差距：国产双工件台实现了10纳米的定位精度，填补了国内空白，这是一个了不起的成就。然而，这一精度仍落后于ASML业界领先的2纳米标准 ²。这8纳米的差距，将直接影响芯片制造中的套刻精度（Overlay），进而限制了在更先进节点上使用多重曝光技术的有效性。

战略转向：DUV多重曝光技术

由于无法获得EUV光刻机，中国通往先进制程（如7纳米）的战略路径，必然依赖于利用现有的DUV浸没式光刻机，并结合多重曝光技术（Multi-Patterning），例如自对准双重图形（SADP）或四重图形（SAQP） ¹³。

这一技术路线在EUV成熟前曾被业界广泛采用，证明了其可行性。然而，它也带来了显著的弊端：制造流程急剧复杂化，光刻、刻蚀、沉积等步骤数量大幅增加，从而导致生产成本上升、周期延长，并对最终的产品良率构成严峻挑战 ¹³。

正因如此，SMEE的28纳米浸没式光刻机才具有了超越其自身节点能力的战略意义。它的成功，不仅仅意味着中国可以自主生产28纳米芯片。更重要的是，它将为中国半导体产业提供一个实施DUV多重曝光战略的基础平台。没有这台高精度的浸没式光刻机，所有关于14纳米甚至7纳米的国产化路径都将是空中楼阁。因此，这台设备是中国迈向先进制程的“钥匙”，是解锁整个国产化生态潜能的“瓶颈”环节。它的成败，直接决定了对北方华创、中微公司等国产刻蚀设备厂商，以及对高端光刻胶材料的真实市场需求的开启时间。

描绘国内生态：全价值链的投资机遇

随着国家战略的持续推进，一个围绕光刻机国产化的本土产业生态系统正在加速形成。对于投资者而言，理解这个生态系统的结构，并识别出其中各个环节的关键参与者，是把握这一历史性机遇的前提。

价值链解析

光刻机产业链条极长，涉及众多高精尖领域。以下表格梳理了在A股上市的、与光刻机产业链直接或间接相关的核心公司，并按其在价值链中的位置进行了分类。这为投资者提供了一张清晰的“投资地图”。

表1：中国光刻机生态系统核心上市公司图谱

细分领域	公司名称	股票代码	产业链关键角色/产品	与SMEE关系及备注
I. 核心子系统
光学系统	茂莱光学	688502.SH	供应光刻机照明系统及曝光物镜系统中的光学元器件。	SMEE直接供应商 ⁹。核心受益标的。
	奥普光电	002338.SZ	母公司长光所是中国光学研发重镇。公司生产光栅传感器等光学部件。	通过长光所深度参与“国家队”研发，间接关联。
	永新光学	603297.SH	生产应用于光刻检测系统等领域的光学模组及镜头。	光刻机概念股之一 ¹⁴。
光源系统	炬光科技	688167.SH	生产光场匀化器，是DUV光源系统中的关键光学元器件。	向全球巨头供货，同时与国内研发单位合作 ¹²。关键元器件供应商。
	福晶科技	002222.SZ	生产非线性光学晶体、激光晶体等上游材料。	曾通过欧洲代理向ASML提供少量光学元件 ⁹。间接关联。
配套系统	美埃科技	688376.SH	为光刻机机台内部提供超高洁净等级（ISO Class 1）的环境解决方案（EFU、ULPA过滤器）。	SMEE直接供应商 ⁹。
II. 外围设备及材料
涂胶显影设备	芯源微	688037.SH	国产涂胶显影设备龙头，与光刻机协同工作。	光刻工艺流程中的必备设备，上游核心企业 ¹⁶。
光刻胶及材料	南大光电	300346.SZ	致力于ArF光刻胶的研发，是DUV光刻工艺的关键材料。	上游核心企业 ¹⁶，其突破对全产业链自主可控至关重要。
	容大感光	300576.SZ	国内PCB光刻胶龙头，正向IC光刻胶领域拓展。	上游核心企业 ¹⁶。
	晶瑞电材	300655.SZ	生产光刻胶，并采购光刻机用于自身研发。	上游核心企业 ¹⁶。
特种气体	凯美特气	002549.SZ	生产用于光刻等半导体工艺流程的电子特种气体。	市场关注度较高的概念股之一 ¹⁴。
投资/控股	张江高科	600895.SH	上海张江高科技园区开发商，间接持有SMEE股份。	投资SMEE及上海半导体生态的代理标的 ¹⁶。

重点公司深度剖析与投资逻辑

在宏观的产业链图谱之下，对核心企业进行深度剖析，是做出审慎投资决策的关键。本节将结合业务模式与财务数据，对几家最具代表性的公司进行分析。

表2：光刻机概念核心股财务快照（基于2022/2023年及最新数据）

公司名称	股票代码	营业收入 (人民币)	营收增长 (同比)	净利润 (人民币)	市盈率 (P/E)	半导体业务收入占比
茂莱光学	688502.SH	4.58亿 (2023)	-	0.51亿 (2023)	较高	37.05% (该业务增速达+57.7%) ¹⁹
炬光科技	688167.SH	6.19亿 (2024)	+10.32%	-1.70亿 (2024)	亏损	业务多元，光源元器件为核心
美埃科技	688376.SH	12.27亿 (2022预估)	-	-	较高	约55% ²⁰
福晶科技	002222.SZ	7.68亿 (2022)	+11.57%	2.26亿 (2022)	约58倍	未明确披露，预计较低
奥普光电	002338.SZ	-	-	-	较高	未明确披露，为多元业务之一

茂莱光学 (688502.SH) - 核心光学标的

业务剖析：作为SMEE光刻机照明与曝光系统的直接、已确认的光学元器件供应商 ⁹，茂莱光学是A股市场中与国产光刻机核心光学系统开发关联度最高的上市公司。
财务分析：半导体业务是公司增长最快的引擎。2023年，该板块收入同比增长57.7%，达到1.7亿元人民币，占总收入比重提升至37.05% ¹⁹。这清晰地表明，公司已从国产替代的浪潮中获得了切实的订单和高速增长。
投资逻辑：
- 优势：与SMEE的直接供应商关系提供了极高的确定性；半导体业务板块的高速增长验证了其市场地位；是国家推动半导体设备自主化战略的明确受益者。
- 劣势：与全球巨头蔡司的技术差距依然巨大 ¹；公司收入来源仍包括生命科学、AR/VR等其他领域，这些领域的波动可能会影响整体业绩 ¹⁹。
- 机遇：一旦SMEE的28纳米光刻机成功实现商业化量产，将极有可能为茂莱光学带来订单的指数级增长，并巩固其作为国家战略级供应商的地位。

炬光科技 (688167.SH) - 关键光源赋能者

业务剖析：公司专注于高功率半导体激光元器件和激光光学领域。其为光刻机产业链提供的核心产品是光场匀化器，这是一种用于DUV光源系统中的关键光学元件。炬光科技不仅拥有供应全球顶级客户的履历，还深度参与国内的研发项目 ¹¹。公司脱胎于著名的中科院西安光机所，拥有深厚的科研背景 ²²。
财务分析：公司目前正处于战略投入和业务转型的关键时期。近期的海外并购虽然导致了短期财务亏损（2024年净亏损1.7亿元，2025年一季度亏损0.32亿元）²³，但这是为了获取前沿技术和拓展市场的必要投入。公司的光刻应用光场匀化器业务增长迅猛，在2022年前三季度收入增长近90% ¹²。随着并购整合效应显现，公司已在2025年第二季度实现单季盈利，预示着业绩拐点可能到来 ²⁵。
投资逻辑：
- 优势：掌握激光光学领域难以复制的核心技术；拥有服务国际顶级客户的经验，技术实力得到验证；战略性并购为公司在光通信、消费电子等高增长赛道上布局未来。
- 劣势：高额的研发投入和并购整合成本导致公司目前处于亏损状态；传统的工业激光业务面临市场竞争压力 ²³。
- 机遇：随着国产光刻机向更高性能迈进，对高质量、高可靠性的国产光源核心元器件的需求将是刚性的。炬光科技正处于满足这一需求的最佳位置。

美埃科技 (688376.SH) - 不可或缺的幕后功臣

业务剖析：公司是国内洁净室及相关设备领域的龙头企业。作为SMEE的直接供应商，美埃科技为其光刻机机台内部提供达到ISO Class 1最高洁净等级标准的微环境解决方案（EFU和ULPA过滤器）⁹。
财务分析：公司业务高度聚焦于半导体/电子行业，该领域收入占其总业务的55%左右 ²⁰，使其成为一个“纯度”较高的半导体基建和设备标的。
投资逻辑：
- 优势：与SMEE的直接供应商关系；在关键细分市场占据领先地位；其业务不仅受益于光刻机本身的制造，更受益于整个半导体晶圆厂的建设浪潮。
- 劣势：公司业绩与半导体行业的资本开支周期紧密相关。
- 机遇：在中国加速建设成熟和先进制程晶圆厂的背景下，对高端洁净室解决方案的需求将持续强劲增长。其作为SMEE供应商的角色，则提供了额外的、技术壁垒更高的增长点。

奥普光电 (002338.SZ) & 福晶科技 (002222.SZ) - 广义光学标的

业务剖析：这两家公司是更广泛的光学元器件生态系统的一部分。奥普光电的母公司长春光机所是中国光学研发的“国家队” ²⁷。福晶科技则是全球领先的晶体与光学元器件制造商，曾间接向ASML供应过产品 ⁹。
财务分析：两家公司的收入来源高度多元化，目前来自国产光刻机项目的直接贡献较小或未单独披露 ²⁹。
投资逻辑：相较于茂莱光学，这两家公司属于对国产光刻机主题风险暴露更低、但也更不直接的投资标的。投资它们，更像是对中国整个高端光学产业实现国产化这一长期趋势的布局。

综合与战略展望：风险、催化剂与长期路径

核心发现总结

中国的光刻机自主化是一项由地缘政治驱动的长期国家战略。
目前已取得重要进展，90纳米技术已实现量产，28纳米浸没式光刻机正处于突破前夜。
然而，与全球领导者ASML在光学系统、光源等核心技术上仍存在代际差距。
国家的先进制程战略高度依赖DUV多重曝光技术，而SMEE的28纳米ArFi光刻机是实施该战略不可或缺的平台。
一个充满活力的本土供应商生态系统正在崛起，为投资者提供了多元化的投资渠道。

未来关键催化剂

首要催化剂：SMEE正式宣布其28纳米ArFi光刻机在国内主流晶圆厂（如中芯国际）成功完成验证并投入商业化生产。这将是对国产技术能力的最终验证，并可能引发对整个产业链的价值重估。
次级催化剂：SMEE向国内供应商释放更多订单；“大基金三期”对光刻机产业链相关公司的明确投资；国产ArF光刻胶在研发或商业化应用上取得突破。

主要风险

技术执行风险：研发进展可能慢于预期。28纳米光刻机在进入实际生产环境后，可能在稳定性、生产效率或良率方面遭遇持续挑战。
地缘政治风险：美国及其盟友的出口管制可能进一步收紧，限制更多基础元器件、原材料或设计软件的获取，从而形成新的技术瓶颈。
估值风险：许多“概念股”的股价已在市场预期驱动下被推至高位，其估值更多地反映了未来而非当下的盈利能力 ¹⁷。任何进展不及预期的迹象都可能引发剧烈的股价回调。
市场风险：半导体行业具有周期性。全球性的行业下行周期可能会减缓资本支出，即使在中国政策驱动的市场中也可能产生影响。

最终展望：3-5年发展轨迹

综合来看，尽管在未来3-5年内完全追赶上EUV技术的最前沿尚不现实，但中国在实现成熟制程（28纳米及以上）节点的技术自主可控方面，正走在一条清晰且不可逆转的道路上。

预计在未来1-2年内，28纳米浸没式光刻机的成功部署是一个高概率事件。这将使国内晶圆厂能够自主生产绝大多数类型的芯片，并通过多重曝光技术，为特定战略性应用（如部分算力芯片）向14/7纳米级别工艺发起冲击。

对于投资领域，市场可能会出现分化 ³。那些拥有可验证的技术实力、获得真实订单、并在28纳米光刻机供应链中扮演明确角色的公司（如茂莱光学、美埃科技），其表现将很可能超越那些仅有“概念”而无实质进展的标的。投资者的关键在于，紧密跟踪核心技术的实质性进展，并聚焦于那些最直接、最关键的技术赋能者。

引用的著作

行业观点光刻机：千亿市场ASML、佳能、尼康三分天下, 访问时间为九月 24, 2025， https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202304191585568075_1.pdf
光刻机各环节国产化情况, 访问时间为九月 24, 2025， https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202304241585733312_1.pdf?1682350463000.pdf
知识课：光刻机——中国半导体产业的“微雕革命”嘉实基金管理有限公司, 访问时间为九月 24, 2025， http://www.jsfund.cn/main/a/20240409/483620.shtml
美强化对华半导体出口管制尽显霸权本性 - 中国国际问题研究院, 访问时间为九月 24, 2025， https://www.ciis.org.cn/yjcg/sspl/202404/t20240418_9234.html
美对华半导体管制的趋势、实施要点与中国因应, 访问时间为九月 24, 2025， http://gjs.cssn.cn/kydt/kydt_kycg/202404/t20240425_5748031.shtml
十四五规划半导体专题：政策助力半导体产业实现跨越式发展, 访问时间为九月 24, 2025， https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202011181430530940_1.pdf?1605794905000.pdf
中国集资逾3000亿扶持半导体，缺民企参与恐难与美国抗衡, 访问时间为九月 24, 2025， https://www.voachinese.com/a/china-sets-up-country-s-largest-ever-chip-investment-fund-20240528/7629712.html
深圳市进一步推动集成电路产业发展行动计划（2019－2023年）, 访问时间为九月 24, 2025， https://gxj.sz.gov.cn/xxgk/xxgkml/zcfgjzcjd/gygh/content/post_2019809.html
科技自立打头阵，重视光刻机产业链国产化机遇, 访问时间为九月 24, 2025， https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202410201640375543_1.pdf?1729499630000.pdf
光刻机“第一股”正式叩门A股！概念股全名单收好 - 财联社, 访问时间为九月 24, 2025， https://m.cls.cn/detail/522885
炬光科技（688167.SH）：高功率半导体激光器领导者，激光雷达新星崛起, 访问时间为九月 24, 2025， https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202207291576684414_1.pdf
炬光科技：前三个季度光刻用光场匀化器收入增长近90% - 财联社, 访问时间为九月 24, 2025， https://m.cls.cn/detail/1210626
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揭秘涨停| 光刻机概念火爆 - 东方财富, 访问时间为九月 24, 2025， https://finance.eastmoney.com/a/202509193518581210.html
光刻机概念上涨3.30%，6股主力资金净流入超亿元 - 东方财富, 访问时间为九月 24, 2025， https://finance.eastmoney.com/a/202509173516066214.html
半导体工业皇冠上的明珠！光刻机产业链上市公司梳理 - 财联社, 访问时间为九月 24, 2025， https://www.cls.cn/detail/1310576
光刻胶龙头却直线飙升，这些国产替代概念股优质低估值 - 证券时报, 访问时间为九月 24, 2025， https://www.stcn.com/article/detail/873747.html
光刻机突发，概念股大涨！茅台再创阶段新低 - 证券时报, 访问时间为九月 24, 2025， https://stcn.com/article/detail/1322144.html
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公司公告-福晶科技：2024年年度报告-股票行情中心-搜狐证券, 访问时间为九月 24, 2025， https://q.stock.sohu.com/cn,gg,002222,11259584033.shtml
奥普光电涨2.11%，成交额4.12亿元，主力资金净流入491.01万元 - 新浪财经, 访问时间为九月 24, 2025， https://cj.sina.cn/articles/view/5953741034/162dee0ea067028434?froms=ggmp
全年业绩保持稳定，超精密光学业务打造新成长, 访问时间为九月 24, 2025， https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202304241585738315_1.pdf

2025年09月24日